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高怀钧知道这个事情，而华国也知道。
所以，现在这个增量市场，就像几百年前乾隆看到蒸汽机，觉得不闭关锁国，就可能江山不稳一样。
不是你闭关锁国，就可以躲得过去的。
现在是不能上也得上！
很快，在争议声之中，高瓴也引来了新一年的年度财务测算。
相比较2017年的测算，2018年由于有了自裁因素的介入，所以也显得格外地与众不同。
高怀钧对于2018年的销售情况，也是显得格外地关注。
今年高瓴在魔都的研发中心五期‘秦之吟’已经完成了主体结构的建设。
整整五期的魔都研发中心，现在已经把那块湖心地给全部填满了。
还有后期还有夏之欻，周之礼两个大主题，他们将会在四年之内建设完毕。
也就是说，经过了接近十年的建设之后，这里已经成为了一个规模超过百万方的超大型的商业聚集区。
这个落地情况，就算是十年前的魔都市领导，估计都预料不到的。
一家公司，居然可以把一个研发分中心建设得那么大，放在几年前，别人都以为你是在开玩笑！
而在拥有了帝都，鹏城，羊城，赫尔辛基，斯德哥尔摩，布鲁塞尔，纽伦堡，东经，里约热内卢，余州，长安，成度等十二个研发分中心之后，为了节约开支，高瓴的研发中心扩张今年慢了下来，并没有增加研发部门。
高瓴的研发中心扩张步伐算是稳定下来，不会再有太多的变化。
基本的框架，也是限制于此。
这研发中心太多了，内部的管理管线就会过于复杂，增加中间层级的风险。
所以高怀钧觉得现在这样的一个框架，足以把世界上能够挖掘到的潜力年轻人给挖到了。
而现在高瓴芯片厂，则从原来黯淡无光的一个小角色，蜕变成为了全村的希望。
在建设完成了高瓴芯片厂二期工厂之后，三期工厂就要开始建设！
这个工厂，将落地帝都！
会是高瓴和帝都政府一起联合建设的一个大型的芯片制造厂。
核心目的，就是生产先进制程的高端芯片。
不过，由于现在紧接而来的针对阿斯麦的限购条例，这也导致了高瓴现在在市场上，已经是购买不到像样的一手光刻机！
所以，现在除了让华国督促02专项继续做研发之外，高瓴也是在做两条腿走路，开始针对光刻机做自己的相关研发。
高瓴这样的公司，怎么可能把鸡蛋只放在一个篮子里面呢？
这个秘密研发小组，其实在两年前就成立了，在最开始的时候人不多，就一百来号人，一小部分是从阿斯麦公司等光刻机公司秘密招聘的华裔员工，而另外一部分则是让高瓴光刻机厂调配过来的研发人员进行逆向解构！
虽然对于这个庞然大物，进展很缓慢，但是也是慢慢摸到了一些路子。
比如一项名为“反射镜、光刻装置及控制方法”的euv光刻机专利，就被申请了国家专利。
以高瓴以往向来不打无准备之仗的惯例，这意味着高瓴在光刻机方面已取得了重大突破，对华国的光刻机产业无疑是重大的助力。
高瓴研发的“反射镜、光刻装置及控制方法”的euv光刻机专利，其实就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，duv光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而euv光源则是135nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、135nm光线实现7nm至2nm的工艺。
高瓴的研发的光刻机技术应该就是为了解决这个核心技术问题。
高瓴亲自下场研发光刻机，在于它已深刻认识到等待光刻机的缓慢研发遥遥无期
毕竟如今东大连先进制程的duv光刻机都不让asml出售给华国。
如此高瓴亲自下场研发光刻机技术，可以加速华国的光刻机技术的进展。
帮助华国，其实核心还是帮助自己。
国产的光刻机将形成了一条完整的产业链条，成为全球唯一拥有光刻机全产业链的经济体。
在高瓴的深度介入之下，双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面都已有相关企业陆续进行突破性的研发，如今高瓴在光线折射技术方面的突破，无疑将补上最后的重要短板，如此国产光刻机成为现实的日子进一步靠近。
高瓴，也实在是等不起，被卡脖子的滋味啊！
高瓴现在也是够悲壮的，这样重要的项目居然需要一家民营企业从头到尾自己啃硬骨头。
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